31寸透明EMI/RFI电磁屏蔽膜

电磁波屏蔽膜也叫EMI(ElectroMagnetic Interference-电磁干扰)保护膜或吸波材料。

目前用作 RFI(RF Interference-射频干扰)屏蔽的材料范围包括导电金属氧化物、金属网和纳米线等材料。

我司EMI/RFI屏蔽膜主要是铜材蚀刻加工后,通过压合于膜材上,主要是对产品内部线路起到减弱或消除电磁干扰/射频干扰的作用。

具有优良的电磁波屏蔽性能的柔性、薄、轻量的电磁波屏蔽膜,用于防止周围环境中的医疗器械、船舶、飞机等精密设备发生故障。

EMI/RFI屏蔽膜提供有效的电磁屏蔽和最佳的透明度(可见光透射率 >80%)。

EMI/RFI屏蔽膜上包含的铜网为 ITO 屏蔽提供了很好的替代品(更好的电阻和导电性)。事实上,ITO 技术是基于具有非常薄层的支撑金属化。该技术提供较低的电导率、较低的透明度和较高的氧化风险。这就是为什么我们更愿意提出这种基于 Cu Mesh 原理的 EMI 屏蔽膜。

优异的性能

技术参数

测试项目 单位 产品特性 检验方法 备注
产品型号 / CNE******EMI-V*.* / /
迭构 上保护层 µm 50 千分尺 PE
铜网格层 µm 2 千分尺 表面黑化
基材 µm 100 千分尺 PET
下保护层 µm 50 千分尺 PET
网格图案 / 45°斜正方形 / /
线距 µm 200 二次元 2X
线宽 µm 9±3 二次元 2X
透过率 % >80% 分光测色仪 550nm
面电阻 Ω/□ 0.2~0.4Ω 四点探头 /
铜与基材附着力 / 5B 百格刀测试  /
可靠性 高温高湿电阻变化率 % ≤10 恒温恒湿实验箱 温度85℃,湿度85℃,500H
高温高湿透过率变化率 % ≤10
高温高湿电阻变化率 % ≤10 紫外老化箱 光源UVA-340,
辐照强度:0.89W/m2@320nm,
黑标温度:(70±2)℃,
辐照模式:全时间段照射
高温高湿电阻变化率 % ≤10

电性测试图示

迭构方式

产品由上保护膜(PE)+ 黑化层 + 铜网格层 + 基材(PET)+ 下保护层(PET)组合而成。

应用范围

◆ 医院(核磁共振、肌电图和脑电图设备的屏蔽);
◆ 工业开发实验室的屏蔽;
◆ 计算机的数据安全;
◆ 行政房间的屏蔽(防止通过麦克风或建筑物外的电子窃听器进行间谍活动);
◆ 屏蔽杂散电磁辐射;
◆ 消费类电子产品(智能手机、平板电脑、触控面板、数码相机、液晶电视等)的电子信号屏蔽。

优良的物理特性

高低温测试

可达到-85℃到+85℃,极点环境下可正常使用;
环境测试:-80℃、100℃(沸水)、-235℃情况下测试产品功能正常。

循环弯曲测试
弯曲度数:从0~ 90~180度(循环弯曲),弯曲直径:4mm,8mm。

循环折叠测试
当弯曲直径为≦4mm时,弯曲角度从20度到180度循环折叠下能正常使用。

主页 产品中心 拨号 留言